【如何改善光谱特性不良】工作现场所用膜料、芯片、硝材生产厂家、型号一旦确认不要经常变更,必须变更的应该多次确认。杜绝、避兔作业过失的发生。强每罩镜片的分光测试监控,设置警戒分光曲线,及时调整膜系。测试比较片管理加强,确保进軍镀膜的测试比较片表面无污染、新鮮、外观达到规定要求。在使用前,对比较片作一次测试,测定其反射率(只测一个波长点就可以)测定值与理论之比较・一般测定值小于理论值(虜蚀层影响),如果二值之间差异较大(比如大于1%)就应该考虑对比较片再复新、或更换。镜片的分光测试要在基片完全冷却后进行。掌握晶控片敏感度变化规律,及时修正控制数据。晶控片在新的时候与使用了若干罩后的感度是不完全一样的,芯片的声阻抗值会有微小变化。有些品控仪(如C5)可以设置自动修正,而大部分品控仪没有自动修正声阻抗值的功能。掌握了品片敏感度的规律可以在膜原设置上矫正。改善晶控探头的冷却效果,晶片在温度大于50C时,测量误差较大。采用离子辅助镀膜的工艺,可以提高成膜分光特件的稳定性。检讨该膜系在该机台的光控适用性。检讨光控中的人为影响。经常检查光控的光路、信号、测试片等。光学镀膜设备厂家qian十。广东光学镀膜设备型号
【光谱分光不良的具体情况】分光不良分为二种情況:一是全部膜系镀制完成后,经測试分光不良,此类不良主要按六节所述方法处理,一般减反膜难以补救。但对于高反膜、带通光膜等可以通过加层的方法补救。二是镀制中途中断(包括发现错误中断)造成的分光不良,一般都可以通过后续努力补救。后方法正确,补救的成功率比较高中断的原因形式不一: ①停电 ②机器故障 ③人为中断(发现错误、疑问后中断) 中断后信息: (一)知道镀到第几层,已镀各层的膜厚; (二)知道到第几层,zui后一层膜的膜厚不确定; (三)不知道镀了多少。 吉林二手光学镀膜设备价格光学镀膜设备操作视频。
【镀膜玻璃的主要产生法之化学沉积法】化学气相沉积(chemical vapour deposition, CVD) 是把含有构成薄膜元素的一种或几种化合物或单质气体,供给基板,利用气相反应,在基板表面上反应沉积出所需固体薄膜的工艺技术,该技术已成为镀膜玻璃生产的主要制备技术。 在线CVD法镀膜技术,是在浮法玻璃生产过程中,连续沉积化合物薄膜的CVD工艺技术,是目前世界上比较先进的镀膜玻璃生产技术。它是以洁净、高速牵引(8-15m/min)、高温(600℃)的浮法玻璃为沉积衬底。换言之,薄膜沉积前,玻璃衬底即将离开锡槽但尚未进人退火窑,且未被处理净化。国外zui早采用在线CVD法连续沉积Sn02薄膜,而我国zui早是用该法生产硅质镀膜玻璃。目前,我国已基本掌握了在线CVD法镀膜技术,能够稳定地生产硅质镀膜玻璃、在线Low-E玻璃和在线自洁净玻璃。在线镀膜玻璃生产线包括:原料→熔窑→锡槽→退火窑→切割→装箱。
【什么是薄膜干涉】薄膜可以是透明固体、液体或由两块玻璃所夹的气体薄层。入射光经薄膜上表面反射后得第yi束光,折射光经薄膜下表面反射,又经上表面折射后得第二束光,这两束光在薄膜的同侧,由同一入射振动分出,是相干光,属分振幅干涉。若光源为扩展光源(面光源),则只能在两相干光束的特定重叠区才能观察到干涉,故属定域干涉。对两表面互相平行的平面薄膜,干涉条纹定域在无穷远,通常借助于会聚透镜在其像方焦面内观察;对楔形薄膜,干涉条纹定域在薄膜附近。 实验和理论都证明,只有两列光波具有一定关系时,才能产生干涉条纹,这些关系称为相干条件。薄膜的想干条件包括三点: 两束光波的频率相同; 束光波的震动方向相同; 两束光波的相位差保持恒定。薄膜干涉两相干光的光程差公式为: Δ=ntcos(α) ± λ/2 式中n为薄膜的折射率;t为入射点的薄膜厚度;α为薄膜内的折射角;λ/2是由于两束相干光在性质不同的两个界面(一个是光疏介质到光密介质,另一个是光密介质到光疏介质)上反射而引起的附加光程差。薄膜干涉原理广fan应用于光学表面的检验、微小的角度或线度的精密测量、减反射膜和干涉滤光片的制备等。 光学镀膜设备使用时,需要注意哪些问题?
【栅网型离子源的加速过程】栅网组件通过向每个栅网施加特定电压以从放电室提取离子。首先,屏栅相对于地为正偏压(束流电压),因此放电室中的等离子体也相对于地为正偏压。然后,加速栅相对于地为负偏压(加速电压),并沿离子源中心线建立电场,放电室中靠近该电场漂移的正离子被加速。即使不使用减速栅,zui外层的电势zui终也近似为零。减速栅的电位通常保持在接地电位加速的离子在通过加速栅之后减速并且以近似束流电压的离子能量从栅网中射出由于已建立的电场,位于放电室或外层的电子被分离开来。光学镀膜设备的工作原理。吉林二手光学镀膜设备价格
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